特許

J-GLOBAL ID：200903033388530929

全反射蛍光X線分析方法および分析装置

発明者： 迫 幸雄
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-131370
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317546
出願日： 1993年05月06日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】 全反射蛍光X線分析において、高輝度のX線源を用いなくても、より精度の高い分析を行う。【構成】 試料表面51に対して微小な入射角度αをなす平面P上において、異なる光路から一次X線B20 ,B21 を集光させて、試料表面51に照射する。

請求項（抜粋）：

試料表面に向って集光する一次X線を微小な入射角度で試料表面に照射し、上記試料表面に対向するX線検出器により、上記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出して、上記X線検出器での検出結果に基づいて上記蛍光X線を分析する全反射蛍光X線分析方法であって、上記試料表面に対し微小な入射角度をなす平面上において、異なる光路から上記一次X線を集光させる全反射蛍光X線分析方法。