特許

J-GLOBAL ID：200903033392341766

157nmリソグラフィー用のレジスト材料

発明者： シオドー エイチ.フェディニシン
出願人/特許権者： マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー
代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-562262
公開番号（公開出願番号）：特表2003-524211
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2003年08月12日
要約：

【要約】光酸発生剤と脂肪族ポリマーとを含む放射線感受性樹脂組成物であって、前記脂肪族ポリマーが1個以上の電子求引基を有し、この電子求引基が保護されたヒドロキシル基を有する炭素原子に隣接しているか又はこの炭素原子に結合しているかのいずれかであり、保護基が現場で発生した酸の存在下で変化しやすいものである、前記放射線感受性樹脂組成物が記載される。この放射線感受性樹脂組成物は、プラズマエッチングによるイメージ転写に好適なレジストとして用いることができ、高い解像度及び選択性で、高い再現性で、高い精度のエッチングイメージを得ることを可能にすることができる。

請求項（抜粋）：

光酸発生剤と保護されたヒドロキシル基を有する脂肪族ポリマーとを含むポジ型感光性組成物であって、前記脂肪族ポリマーが保護されたヒドロキシル基を有する炭素原子に隣接した電子求引基及び/又は前記炭素原子に結合した電子求引基を1個以上有し、前記保護基が現場で発生した酸の存在下において変化しやすいものである、前記ポジ型感光性組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (11件)：

2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17