特許

J-GLOBAL ID：200903033399284679

水素製造装置及び水素製造方法

発明者： 上田 雅敏 ,  唐金 光雄 ,  松林 孝昌 ,  小田 勝也 ,  三宅 泰夫
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 中島 司朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-268924
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106204
出願日： 1997年10月01日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：

【要約】【課題】 装置構成を複雑にすることなく且つボイラや熱交換器などがなくても水蒸気の生成や燃料の加熱を行うことができる水素製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】 原燃料、空気及び水の源燃料混合物は、配管L3の改質触媒層100内に陥没した一端(図面上でスパイラル形状の部分)を流れるときに部分酸化反応の顕熱を受けて加熱され、水蒸気の生成を伴って改質触媒層100に導入される。このように反応系内の顕熱を有効に利用して原燃料の加熱や水蒸気の生成を行うため、別途加熱手段を配さなくてもよく装置構成を簡略なものにすることができる。

請求項（抜粋）：

燃料を部分的に酸化する部分酸化反応層を配した部分酸化部と、水蒸気の供給を受けて燃料を水蒸気改質反応して水素リッチな改質ガスを生成する水蒸気改質触媒層を配した改質部と、燃料の加熱を行い、当該加熱した燃料を前記部分酸化部に供給する燃料供給手段と、水蒸気の生成を行い、当該水蒸気を前記改質部に供給する水蒸気供給手段とを備え、前記燃料供給手段と前記水蒸気供給手段の少なくとも一方は、熱源として前記部分酸化反応で発生する熱を用いていることを特徴とする水素製造装置。

IPC (3件)：

C01B 3/38 ,  C01B 31/20 ,  H01M 8/06

FI (3件)：

C01B 3/38 ,  C01B 31/20 A ,  H01M 8/06 R