特許
J-GLOBAL ID:200903033400240079

半導体製造ガス用高圧ガス容器弁

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 豊田 武久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-202541
公開番号(公開出願番号):特開平11-030399
出願日: 1997年07月11日
公開日(公表日): 1999年02月02日
要約:
【要約】【課題】 高圧で半導体製造ガスを充填した高圧ガス容器の容器弁として、流体圧により開閉を遠隔操作でき、しかも弁開放をゆっくりと行なえるようにして、急速な弁開放を行なった場合の断熱圧縮によるガス温度上昇を防止する。【解決手段】 請求項1:弁開閉のためのアクチュエータを作動させる駆動用流体の流路にオリフィス孔を設けて、流路抵抗を与えることにより、弁開放時に駆動用流体をゆっくりと導入するようにした。 請求項2:駆動用流体とは別のダンパ流体の流路にオリフィス孔を設けたダンパ機構を弁開閉のためのアクチュエータに付設した。 請求項3および請求項4:弁開放時には前記オリフィス孔の機能によりゆっくりと開放できる反面、弁閉止時にはオリフィス孔の機能を実質的に無効として、急速に閉止できるようにした。
請求項(抜粋):
半導体製造のために使用される半導体製造ガスを収容した高圧ガス容器のガス出口に取付けられる高圧ガス容器弁であって、高圧ガス容器のガス出口に連通する主流入口と、外部へ半導体製造ガスを導き出す主流出口と、前記主流入口および主流出口との間に形成された主流路と、その主流路を開閉するための弁体および弁座からなる容器弁本体部と、その容器弁本体部の弁体に結合されてその弁体を容器弁本体部の開閉方向へ移動させるためのアクチュエータと、外部から駆動用流体を導入するための駆動用流体導入口と、その駆動用流体導入口から導入された駆動用流体を前記アクチュエータへ向けて導くための駆動用流体流路と、駆動用流体流路によって導かれた駆動用流体を受入れてその駆動用流体の圧力によりアクチュエータを弁開放方向へ移動させるための圧力室と、前記アクチュエータを弁閉止方向へ付勢するための主付勢手段とを有してなる半導体製造ガス用高圧容器弁において、前記駆動用流体流路に、駆動用流体の流れに対して流路抵抗を与えるためのオリフィス孔を有するオリフィス部が介在されており、そのオリフィス孔を通過して駆動用流体が圧力室に導入されるようにしたことを特徴とする半導体製造ガス用高圧ガス容器弁。
IPC (2件):
F17C 13/04 301 ,  F16K 31/122
FI (2件):
F17C 13/04 301 D ,  F16K 31/122

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