臨界超過流体乾燥システム

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八木田茂 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-525145
公開番号（公開出願番号）：特表2003-510801
出願日： 2000年09月20日
公開日（公表日）： 2003年03月18日
要約：

【要約】ウエハー(13)を製作し且つ乾燥させる方法及び装置が、第二臨界超過処理流体環境における、微細電子機械システム(MEMS)構造を具備する。装置は、臨界超過処理容器供給部及び回収システムに接続された反転圧力容器(11)と、外部加熱及び冷却源に接続された内部熱交換器(9)とを利用し、垂直可動ベース(10)で閉じられる。複数のウエハー(13)を支持する形態のウエハーカセット(14)が、コンテナ(12)内の第一処理流体に浸され、コンテナが圧力容器(11)に挿入されるベースプレート(10)上に搭載される。容器(11)の入口管(2)出口管(4)が、圧力容器(11)の底部からベースプレート(10)の近くまで垂直下方へ延びる。コンテナ(12)の入口(1)管及び出口管(4)が、圧力容器(11)の底部からコンテナ(12)の内部で、コンテナ(12)の底部の近くまで垂直下方へ延びる。

請求項（抜粋）：

臨界超過環境におけるウエハーを乾燥させる装置において、反転圧力容器と、水平ベースプレートと、乾燥させる少なくとも一つのウエハーを支持する形態のウエハーカセットと、前記ウエハーカセット及び少なくとも一つのウエハーを第一処理流体に浸すのに充分大きく、且つ前記ベースプレートに取り付けて、前記圧力容器内に入れるのに十分小さなコンテナと、前記ウエハーカセットを前記コンテナ内に配置する手段と、前記コンテナを前記ベースプレートに配置する手段と、前記圧力容器と前記ベースプレートを閉じて密閉した関係にする手段と、前記圧力容器における空気を、ガス状態の第二処理流体と取り替える手段と、前記第二処理流体を液状態にする手段と、前記コンテナにおける前記第一処理流体を、前記液状態の前記第二処理流体と取り替える手段と、前記第二処理流体を臨界超過状態にする手段と、前記圧力容器における圧力を周囲圧に下げる手段と、前記第二処理流体を臨界超過温度よりも下に冷却する手段と、を備えることを特徴とするウエハー乾燥装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/304 , F26B 5/14 , F26B 9/06

FI (5件)：

H01L 21/304 651 L , H01L 21/304 651 G , H01L 21/304 651 K , F26B 5/14 , F26B 9/06 A

Fターム (12件)：

3L113AA01 , 3L113AB09 , 3L113AC21 , 3L113AC28 , 3L113AC45 , 3L113AC46 , 3L113AC67 , 3L113AC76 , 3L113BA34 , 3L113CA10 , 3L113DA21 , 3L113DA24

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