特許

J-GLOBAL ID：200903033410857619

制御方法およびそれに用いる集束イオンビーム装置

発明者： 大島 英樹 ,  関原 雄 ,  吉永 一正 ,  宍戸 貴男 ,  大鋸谷 薫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-049396
公開番号（公開出願番号）：特開平9-245714
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 集束イオンビーム照射中の加工位置のずれを自動的に補正し、高精度で集束イオンビーム加工を行う。【解決手段】 加工を行う試料に所定のマークを形成し、FIBコントローラ12が、所定のマークスキャンインターバル毎に該マークをスキャンし、最初にスキャンされたマークの位置と最新にスキャンされたマークの位置とを比較し、加工中に位置ずれが生じた場合に位置補正を行い、高精度に集束イオンビーム加工を行う。また、比較したデータのずれ量がない場合は、インターバル時間を長く設定し直し、ずれ量が予め設定されている値より大きいとインターバル時間を短くし、ずれ量が設定値よりも小さいとインターバル時間を同じ時間とすることにより、集束イオンビームによる試料へのダメージを最小にする。

請求項（抜粋）：

所定のマークの位置を所定のインターバル時間毎に集束イオンビームのラインスキャンにより検出する工程と、最初に検出された前記マークの位置と最新に検出された前記マークの位置とを比較し、最初に検出された前記マークの位置と最新に検出された前記マークとのずれ量を算出する工程と、算出されたずれ量に基づいて照射中の集束イオンビームをシフトさせ、加工位置を補正する工程とを有したことを特徴とする制御方法。

IPC (4件)：

H01J 37/30 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/68 ,  H01L 21/203

FI (4件)：

H01J 37/30 A ,  H01L 21/68 F ,  H01L 21/203 M ,  H01L 21/302 D