特許
J-GLOBAL ID:200903033418955512
可視光応答型二酸化チタン光触媒薄膜とその作製法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 桜井 周矩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-029331
公開番号(公開出願番号):特開2005-218957
出願日: 2004年02月05日
公開日(公表日): 2005年08月18日
要約:
【課題】厚さが数百nm程度の非常に薄い膜状で、可視光下で光触媒性を有する硫黄添加二酸化チタン膜の形成方法を提供することである。【解決手段】 二硫化チタン(TiS2)を焼成して作製したターゲット材を用い、これにレーザー蒸着法により硫黄を不純物として添加したことからなる、可視光応答型二酸化チタン光触媒薄膜の作製法であり、ターゲット材が、圧縮成形した二硫化チタンを温度350〜450°Cの空気中で焼成することにより作製され、可視光応答型二酸化チタン光触媒薄膜を形成する基板温度が、350〜450°Cに制御され、真空中で硫黄の蒸着を行う。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
硫黄を不純物として添加した可視光応答型二酸化チタン光触媒薄膜。
IPC (5件):
B01J35/02
, B01J27/02
, B01J37/02
, C23C14/08
, C23C14/34
FI (5件):
B01J35/02 J
, B01J27/02 M
, B01J37/02 301P
, C23C14/08 E
, C23C14/34 A
Fターム (24件):
4G047CA03
, 4G047CB04
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069BD08A
, 4G069BD08B
, 4G069CA10
, 4G069EA08
, 4G069ED02
, 4K029AA08
, 4K029AA24
, 4K029BA48
, 4K029BB08
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DB05
, 4K029DB08
, 4K029DB20
, 4K029EA08
引用特許: