特許

J-GLOBAL ID：200903033445152871

有機物を含む放射性廃液の処理方法およびその装置

発明者： 大嶽 敦 ,  船橋 清美 ,  黒川 秀昭 ,  西 高志 ,  泉田 龍男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-046789
公開番号（公開出願番号）：特開平7-260997
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【構成】放射性廃液を処理して清浄な処理水を得る方法および装置で、酸化槽2で酸化処理を行い、有機化合物を酸化分解し水溶性の金属イオンを水に不要な酸化物とし、次に吸着剤添加槽3で吸着剤を添加して微小な金属酸化物結晶および有機物を吸着剤に吸着し、濾過器4で濾過して清浄な処理水を得る。【効果】酸化処理と吸着剤を用いた濾過により、経済的かつ効率的な放射性廃液処理が行える。

請求項（抜粋）：

有機物を含む放射性廃液から、前記有機物および放射性物質を除去して清浄な処理水を得る方法において、前記放射性廃液を酸化処理し、吸着剤を加え、濾過によって水に不溶な成分を除去して清浄な処理水を得ることを特徴とする有機物を含む放射性廃液の処理方法。

IPC (5件)：

G21F 9/06 551 ,  G21F 9/06 ZAB ,  G21F 9/06 521 ,  G21F 9/12 ZAB ,  G21F 9/12 501