特許

J-GLOBAL ID：200903033449410832

磁気記録媒体の製造方法

発明者： 櫻井 正敏 ,  鎌田 芳幸 ,  白鳥 聡志 ,  喜々津 哲
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-183693
公開番号（公開出願番号）：特開2008-016084
出願日： 2006年07月03日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：

【課題】レジスト残渣除去工程をなくしても、磁性膜を一様にエッチングすることができ、パターンド媒体の製造コストを低減できる方法を提供する【解決手段】基板上に磁性膜を形成し、前記磁性膜上にレジストを塗布し、前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、前記スタンパを除去した後、パターン化されたレジストの凹部にレジスト残渣を残したままイオンミリングにより前記磁性膜を加工して磁性膜パターンを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上に磁性膜を形成し、前記磁性膜上にレジストを塗布し、 前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、 前記スタンパを除去した後、パターン化されたレジストの凹部にレジスト残渣を残したままイオンミリングにより前記磁性膜を加工して磁性膜パターンを形成する ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (1件)：

G11B 5/84

FI (1件)：

G11B5/84 Z

Fターム (3件)：

5D112AA19 ,  5D112AA24 ,  5D112GA20

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第5,772,905号明細書