特許
J-GLOBAL ID:200903033454203934
光学補償シートの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-226717
公開番号(公開出願番号):特開平8-094835
出願日: 1994年09月21日
公開日(公表日): 1996年04月12日
要約:
【要約】【目的】 円盤状化合物より成る液晶表示素子の視野角を広くすることが出来る光学補償シ-トの製造方法を提供する。【構成】少なくとも、支持体、およびその上に円盤状化合物を含む層を有し、その層が光学的に負の一軸性で、光軸がシ-ト面の法線方向から傾いている光学補償シ-トの製造方法であって、ネマチック形成温度が室温から300°Cの範囲にあるディスコティク液晶を含む層を、200°C以下の温度で、300秒以下の時間加熱して均一配向させる工程を含む光学補償シ-トの製造方法。
請求項(抜粋):
少なくとも、支持体、及びその上に円盤状化合物を含む層を有し、その層が光学的に負の一軸性で、光軸がシ-ト面の法線方向から傾いている光学補償シ-トの製造方法であって、ネマチック形成温度が室温から300°Cの範囲にあるディスコティック液晶を含む層を、200°C以下の温度で300秒以下の時間加熱して均一に配向させる工程を含む事を特徴とする光学補償シ-トの製造方法。
IPC (2件):
G02B 5/30
, G02F 1/13 500
引用特許:
審査官引用 (3件)
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光学異方素子及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-153265
出願人:富士写真フイルム株式会社
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特開平4-012322
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特開昭62-070419
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