バブリング装置及びサンプリング装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-203108
公開番号（公開出願番号）：特開2003-010629
出願日： 2001年07月04日
公開日（公表日）： 2003年01月14日
要約：

【要約】【課題】分析装置にガスを安定して導入することができるサンプリング装置を提供する。【解決手段】第1の除去手段11に排ガスが導入されると、排ガス中の水溶性ダストなどがバブリング装置11a,11bのバブラ供給水に溶解して除去される。第1の除去手段11を通過した排ガスが第2の除去手段13に導入されて、ダスト/ミスト除去フィルタ13aを通過すると、このダスト/ミスト除去フィルタ13a内で液滴が凝集してドレン化する。ダスト/ミスト除去フィルタ13aによって排ガス中の水溶性ダストなどが捕集されると、この水溶性ダストが液滴中に溶解、凝集してドレン化する。ダスト/ミスト除去フィルタ13aを通過する排ガスの圧力によって、ダスト/ミスト除去フィルタ13a外に液滴が押し出され、ダスト/ミスト除去フィルタ13aの下方に液滴が落下し流れ出す。

請求項（抜粋）：

吸収液にガスを通過させて、このガス中の特定物質をこの吸収液に吸収させて除去するバブリング装置であって、前記吸収液を通過する前記ガスによる気泡を切断する切断手段を備えること、を特徴とするバブリング装置。

IPC (3件)：

B01D 53/18 , B01D 53/14 , G01N 1/22

FI (4件)：

B01D 53/18 A , B01D 53/14 C , G01N 1/22 D , G01N 1/22 S

Fターム (13件)：

2G052AA04 , 2G052AC25 , 2G052AD27 , 2G052AD32 , 2G052CA04 , 2G052EA03 , 2G052ED11 , 2G052ED15 , 2G052JA07 , 4D020CB01 , 4D020CC05 , 4D020CD01 , 4D020CD02

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