特許
J-GLOBAL ID：200903033458278238
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331831
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166693
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 ショット毎に露光時間を補正して露光することにより、レジスト膜厚および下地ウエハ厚などの変化によるレジストパターン寸法のばらつきを低減し、パターニング精度を向上させる。【構成】 下地ウエハ5上のフォトレジスト6に感光波長を当てると透明度が上り、ある時間で飽和する。この透明度の飽和開始時間がフォトレジスト6のしきい値(Eth)と一致することから、この飽和開始時間をショット毎に反射光受光手段を介して飽和開始点測定システム14でモニタし、次の露光ショットにフィードバックすることでショット毎,ウエハ毎の適正露光エネルギーが得られることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
下地ウエハ上のフォトレジスト上にシャッタ系を制御してマスクパターンを投影するための縮小投影型の露光装置において、露光時の照射光の前記下地ウエハからの反射光を受光する反射光受光手段と、この反射光受光手段からの反射光によるフォトレジストの透明度の変化から前記透明度の飽和開始時間を算出し、これを前記シャッタ系にフィードバックして適正な露光時間を決定する飽和開始点測定システムとを備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
