特許

J-GLOBAL ID：200903033471710289

薄膜形成装置のクリーニング装置および方法

発明者： 高橋 正弘
出願人/特許権者： ユー・エム・シー・ジャパン株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-062005
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270513
出願日： 2001年03月06日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
要約：

【要約】【課題】 クリーニングの終点を正確かつ簡易に決定し得る汎用的な薄膜形成装置のクリーニング装置を提供する。【解決手段】 ClF3ガス20を薄膜形成装置10に連続的に導入して、堆積している薄膜を除去するための薄膜除去手段11,30,31と、薄膜形成装置からの排気ガス21を除害するための除害手段13と、除害前の排気ガスの特定成分を検出する検出手段12を有し、クリーニングの終点を決定するための終点決定手段とを有する。

請求項（抜粋）：

ClF3ガスを薄膜形成装置に連続的に導入して、堆積している薄膜を除去するための薄膜除去手段と、薄膜形成装置からの排気ガスを除害するための除害手段と、除害前の排気ガスの特定成分を検出する検出手段を有し、クリーニングの終点を決定するための終点決定手段とを有することを特徴とするクリーニング装置。

IPC (6件)：

H01L 21/205 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  C23F 1/12 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

H01L 21/205 ,  C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J ,  C23F 1/12 ,  H01L 21/302 N ,  H01L 21/302 P

Fターム (34件)：

4K029BA02 ,  4K029BA35 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DA02 ,  4K029FA09 ,  4K030BA01 ,  4K030BA29 ,  4K030BA36 ,  4K030BA38 ,  4K030DA06 ,  4K030EA12 ,  4K030KA39 ,  4K057WA01 ,  4K057WA14 ,  4K057WB01 ,  4K057WB06 ,  4K057WB08 ,  4K057WE07 ,  4K057WJ10 ,  4K057WN10 ,  5F004AA15 ,  5F004BD04 ,  5F004CB03 ,  5F004DA00 ,  5F004EA34 ,  5F045AB02 ,  5F045AB05 ,  5F045BB08 ,  5F045BB14 ,  5F045EB06 ,  5F045GB04