プロセスデータのリアルタイム解析方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-002030
公開番号（公開出願番号）：特開平7-205245
出願日： 1994年01月13日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】射出成形中のプロセスデータをリアルタイムで処理、解析できるようにして成形品の品質をリアルタイムで判定できるようにすること。【構成】信号処理部12とデータ加工処理部13とを備え、信号処理部12は、射出速度や射出圧力、スクリュ位置等を示す複数種類のプロセスデータを受けて1ショット毎に収集、記憶すると共に、これらのデータからそれぞれ1ショット内の変化を示すアナログ波形を生成、記憶する一方、射出成形機における監視データを収集して一旦記憶する。データ加工処理部13は、信号処理部に記憶されているデータを読み出して前記アナログ波形に対して最大値、最小値、立上がり時間、立下がり時間等の特徴量抽出のための解析処理を行い、該解析結果を数値化して前記アナログ波形を示すデータと共に出力する。

請求項（抜粋）：

射出成形機に設けられた各種センサからの射出速度や射出圧力、スクリュ位置等を示す複数種類のプロセスデータを1ショット毎にディジタルデータに変換して収集すると共に、これら複数種類のディジタルデータからそれぞれ1ショット内の変化を示すアナログ波形を生成して一旦記憶する一方、射出成形機における監視データを収集して一旦記憶し、前記記憶されたデータを読み出して前記アナログ波形に対して最大値、最小値、立上がり時間、立下がり時間等の特徴量抽出のための解析処理を行い、該解析結果を数値化して表示やプリントアウトしたり、記憶部に保存することを特徴とするプロセスデータのリアルタイム解析方法。

IPC (2件)：

B29C 45/76 , B29C 45/50

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-155915
特開平2-145314
特開平3-132325

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