特許

J-GLOBAL ID：200903033475946449

洗浄剤

発明者： 山下 泉 ,  松本 省慈 ,  森 悟
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-009393
公開番号（公開出願番号）：特開平7-216398
出願日： 1994年01月31日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：

【要約】【構成】 (a)アジピン酸ジメチル、こはく酸ジメチル及びグルタル酸ジメチルからなる群より選ばれた少なくとも一種を5〜85重量%、(b)一般式(1)で表わされるグリコールエーテルを5〜85重量%、(c)エポキシ化合物及び/又はカルボジイミド化合物を0.05〜10重量%、(d)水を3〜25重量%の成分からなることを特徴とする洗浄剤である。R1 O-(R2 O)n -R3 (1)[式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基又はアルケニル基、R2 は炭素数2〜4のアルキレン基、R3 は水素又は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニル基、nは1〜4の整数を示す]【効果】 本発明の洗浄剤は、オゾン層破壊の恐れが全くない優れた洗浄力を有するとともに引火点もなく、品質の安定性も優れたものである。

請求項（抜粋）：

(a)アジピン酸ジメチル、こはく酸ジメチル及びグルタル酸ジメチルからなる群より選ばれた少なくとも一種を5〜85重量%、(b)一般式(1)で表わされるグリコールエーテルを5〜85重量%、(c)エポキシ化合物及び/又はカルボジイミド化合物を0.05〜10重量%、(d)水を3〜25重量%の成分からなることを特徴とする洗浄剤。R1 O-(R2 O)n -R3 (1)[式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基又はアルケニル基、R2 は炭素数2〜4のアルキレン基、R3 は水素又は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニル基、nは1〜4の整数を示す]

IPC (3件)：

C11D 7/60 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32