特許

J-GLOBAL ID：200903033479776696

フオトマスク及び露光方法並びに投影露光装置

発明者： 安西 暁
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-200580
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045864
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】 段差構造を持つ感光基板上での投影光学系の結像特性を向上させる。【構成】 レチクル2のパターンを転写すべきウエハ4上の露光領域SA内の少なくとも1つの部分領域W11は段部をなしている。この露光領域内での段差情報に応じて、投影レンズ3の結像面IMと露光領域SAの表面とがほぼ一致するように、レチクル2のパターン面に段差を形成することによって、投影レンズ3の結像面IMの少なくとも一部分を光軸(AX)方向に移動する。【効果】 露光領域内に段差があっても、その領域全面で良好な像質のパターンを形成することが可能となる。

請求項（抜粋）：

露光装置によって所定のパターンを投影光学系を介して感光基板上に露光するために用いられるフォトマスクにおいて、前記パターンを転写すべき前記感光基板上の露光領域内の段差構造に対応して、前記パターンが形成される面の少なくとも一部分に段差を有することを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/213 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 N

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-131143
  
• 特開平2-278811
  
• 特開昭61-008922