製紙用填料およびこれを充填した紙

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河澄和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-252838
公開番号（公開出願番号）：特開2004-091952
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】本発明が解決しようとする課題は、第1には、特定のシラノール基に起因する強度発現能力を有しかつ低嵩比重の新規な填料の提供と、該填料を充填した低密度かつ高紙力の紙の提供にある。【解決手段】珪酸カルシウムまたはシリカ系の製紙用填料であって、Q0、Q1、Q2のシラノール基のうち、少なくとも1種類のシラノール基を有し、且つ、CP/MAS法による29Si-固体NMR(核磁気共鳴装置)チャートにおいて、シラノール基由来のすべてのピークの面積(Sall)に対するQ0、Q1、Q2シラノール基によるピーク面積の和(S0+S1+S2)の比((S0+S1+S2 )/Sall)が0.5〜1であり、且つ該填料を特定の嵩比重とすることにより、新規な製紙用填料を提供する。また、該新規填料を充填することにより、従来の填料を充填した紙に比べ、嵩高で紙の強度低下が少ない紙が得られる。

請求項（抜粋）：

珪酸カルシウム系またはシリカ系の製紙用填料であって、 (1)Q0、Q1、Q2のシラノール基のうち、少なくとも1種類のシラノール基を有し、 (2)且つ、CP/MAS法による29Si-固体NMRチャートにおいて、シラノール基由来のすべてのピークの面積(Sall)に対するQ0、Q1、Q2シラノール基によるピーク面積の和(S0+S1+S2)の比((S0+S1+S2 )/Sall)が0.5〜1であることを特徴とする珪酸カルシウム系またはシリカ系の製紙用填料。

IPC (3件)：

D21H17/68 , C01B33/12 , C01B33/24

FI (3件)：

D21H17/68 , C01B33/12 Z , C01B33/24 101

Fターム (42件)：

4G072AA25 , 4G072BB05 , 4G072DD03 , 4G072DD04 , 4G072DD05 , 4G072GG01 , 4G072HH23 , 4G072JJ12 , 4G072LL04 , 4G072MM24 , 4G072MM40 , 4G072TT01 , 4G072TT04 , 4G072TT30 , 4G072UU25 , 4G073BA11 , 4G073BA63 , 4G073BD01 , 4G073BD03 , 4G073CC08 , 4G073CC13 , 4G073CC14 , 4G073CC15 , 4G073GA11 , 4G073GA16 , 4G073GB05 , 4G073UB21 , 4L055AA02 , 4L055AA03 , 4L055AC02 , 4L055AC03 , 4L055AC06 , 4L055AC09 , 4L055AG16 , 4L055AG18 , 4L055AH01 , 4L055EA16 , 4L055EA25 , 4L055EA32 , 4L055FA16 , 4L055GA15 , 4L055GA16

引用特許：

審査官引用 (5件)

低密度紙
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-091753 出願人：日本製紙株式会社
特開平3-082896
特表昭60-500264

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