特許

J-GLOBAL ID：200903033504663877

投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法

発明者： 吽野 靖行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-347936
公開番号（公開出願番号）：特開平9-167735
出願日： 1995年12月15日
公開日（公表日）： 1997年06月24日
要約：

【要約】【課題】 ステップ&スキャン方式を用いてレチクル面上のパターンをウエハ面上に投影露光する際にスキャン方向とそれと直交する方向の双方で解像力が略等しくなるようにした投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 スリット開口の光束で第1物体面上のパターンを照明し、第1物体面上のパターンを投影光学系により可動ステージに載置した第2物体面上に該第1物体と該可動ステージを該スリット開口の短手方向に該投影光学系の投影倍率に対応させた速度比で同期させてスキャンさせながら投影露光する際、該投影光学系の実効的な開口数を該スキャン方向とそれに直交する方向とで異なるようにしていること。

請求項（抜粋）：

スリット開口の光束で第1物体面上のパターンを照明し、第1物体面上のパターンを投影光学系により可動ステージに載置した第2物体面上に該第1物体と該可動ステージを該スリット開口の短手方向に該投影光学系の投影倍率に対応させた速度比で同期させてスキャンさせながら投影露光する際、該投影光学系の実効的な開口数を該スキャン方向とそれに直交する方向とで異なるようにしていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 516 B