特許
J-GLOBAL ID:200903033528291245

インプリント加工用モールド及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 安富 康男 ,  八木 敏安
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-160458
公開番号(公開出願番号):特開2007-326367
出願日: 2007年06月18日
公開日(公表日): 2007年12月20日
要約:
【課題】高分子樹脂との剥離性が良好であり、離型剤がモールドの凹部の溝部分に入り込んでおらず、プレス加工による正常なパターンの転写が可能であり、その製造が簡便かつ安全な、インプリント加工用モールドを提供する。【解決手段】金型の材料10と化学的に反応する官能基を有するパーフルオロポリエーテル11で被覆してなるものであり、半導体素子又は微小光学素子のパターン形成に用いることを特徴とするインプリント加工用モールド12。【選択図】図1
請求項(抜粋):
モールドの材料と化学的に反応する官能基を有するパーフルオロポリエーテルで被覆してなるものであり、 半導体素子又は微小光学素子のパターン形成に用いること を特徴とするインプリント加工用モールド。
IPC (3件):
B29C 33/58 ,  B29C 33/38 ,  H01L 21/027
FI (3件):
B29C33/58 ,  B29C33/38 ,  H01L21/30 502D
Fターム (18件):
4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH37 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AJ11 ,  4F202CA03 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CD22 ,  4F202CK11 ,  4F202CM47 ,  4F202CM83 ,  4F202CM84 ,  5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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