特許

J-GLOBAL ID：200903033551195636

露光方法及びデバイス製造方法、並びに露光装置

発明者： 金谷 有歩
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-098769
公開番号（公開出願番号）：特開2009-252991
出願日： 2008年04月04日
公開日（公表日）： 2009年10月29日
要約：

【課題】面位置計測システムによる面位置計測の結果を用いて、安定且つ高精度な面位置計測を可能にする。【解決手段】Zヘッド72aからステージWSTの上面の一部に設けられた計測面(スケール)39Y2に計測ビームLBを投射し、その計測面からの反射ビームを受光して、計測ビームLBの投射点における計測面のZ軸方向に関する面位置情報を計測する。それと同時に、反射ビームの強度IR、あるいはビーム断面内の強度分布を計測する。強度IR又は強度分布の計測結果を用いて、面位置情報の計測結果を検証し、さらに計測誤差を補正する。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

所定平面に沿って少なくとも一軸方向に移動する移動体に保持された物体にエネルギビームを照射して前記物体上にパターンを形成する露光方法であって、 前記移動体の前記所定平面に平行な一面に設けられた計測面に計測光を投射し、前記計測面からの反射光を受光して、前記計測光の投射点における前記計測面の前記所定平面に垂直な方向に関する面位置情報と、前記反射光の強度と、を計測し、計測された前記面位置情報と前記反射光の強度とに基づいて、前記移動体を駆動する露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01B 11/00 ,  H01L 21/683

FI (5件)：

H01L21/30 526A ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  G01B11/00 A ,  H01L21/68 P

Fターム (45件)：

2F065AA04 ,  2F065AA20 ,  2F065BB15 ,  2F065CC17 ,  2F065CC20 ,  2F065EE07 ,  2F065FF10 ,  2F065FF16 ,  2F065FF55 ,  2F065GG04 ,  2F065GG06 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ24 ,  2F065LL04 ,  2F065LL08 ,  2F065LL12 ,  2F065LL16 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL42 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ28 ,  5F031CA02 ,  5F031HA13 ,  5F031HA57 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031JA06 ,  5F031JA22 ,  5F031JA32 ,  5F031MA27 ,  5F046BA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046CC16 ,  5F046CC20 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046DC10 ,  5F046DC12

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 国際公開第2004/053955号パンフレット
  
• 国際公開第2007/097379号パンフレット