特許

J-GLOBAL ID：200903033552207476

導電性パターン形成方法及び導電性パターン材料

発明者： 川村 浩一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-090646
公開番号（公開出願番号）：特開2005-277224
出願日： 2004年03月25日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：

【課題】 微細で解像度及び導電性の高いパターンを形成しうる導電性パターン形成方法、及び、微細で解像度及び導電性の高いパターンが形成されてなる応用範囲の広い導電性パターン材料を提供する。【解決手段】 光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、 パターン露光を行い、露光領域の該重合開始部位を失活させる工程と、 前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該重合開始部位に光開裂を生起させ、ラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、を行った後、 該グラフトポリマー生成領域に金属イオン又は金属塩を付与する工程、及び、該金属イオン又は該金属塩中の金属イオンを還元して金属を析出させる工程を行う。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、 パターン露光を行い、露光領域の該重合開始部位を失活させる工程と、 前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該重合開始部位に光開裂を生起させ、ラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、 該グラフトポリマー生成領域に金属イオン又は金属塩を付与する工程と、 該金属イオン又は該金属塩中の金属イオンを還元して金属を析出させる工程と、 をこの順に行うことを特徴とする導電性パターン形成方法。

IPC (12件)：

H05K3/10 ,  B05D5/12 ,  B05D7/24 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/085 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  H01B13/00 ,  H01L21/027 ,  H05K1/09 ,  H05K3/18

FI (12件)：

H05K3/10 C ,  B05D5/12 B ,  B05D7/24 302Z ,  G03F7/004 521 ,  G03F7/028 ,  G03F7/085 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/40 521 ,  H01B13/00 503D ,  H05K1/09 A ,  H05K3/18 C ,  H01L21/30 568

Fターム (81件)：

2H025AA19 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC51 ,  2H025BC88 ,  2H025BH04 ,  2H025CA00 ,  2H025CC06 ,  2H025DA35 ,  2H025DA39 ,  2H025DA40 ,  2H025FA01 ,  2H025FA43 ,  2H096AA26 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096CA02 ,  2H096EA02 ,  2H096EA13 ,  2H096HA03 ,  2H096HA09 ,  2H096HA27 ,  2H096JA01 ,  2H097BA06 ,  2H097HB01 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  4D075BB40Y ,  4D075BB42Y ,  4D075BB46Y ,  4D075BB72Z ,  4D075BB87Z ,  4D075CA22 ,  4D075CA25 ,  4D075CB38 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB36 ,  4D075DB43 ,  4D075DB47 ,  4D075DB48 ,  4D075DB50 ,  4D075DB53 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC27 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4D075EB14 ,  4D075EB19 ,  4D075EB20 ,  4D075EB22 ,  4D075EB24 ,  4D075EB33 ,  4D075EB38 ,  4D075EB43 ,  4D075EB44 ,  4E351BB01 ,  4E351DD04 ,  4E351DD05 ,  4E351DD10 ,  4E351DD19 ,  4E351EE21 ,  5E343AA12 ,  5E343AA23 ,  5E343AA26 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB28 ,  5E343BB44 ,  5E343ER08 ,  5E343ER23 ,  5E343ER46 ,  5E343ER47 ,  5F046AA17 ,  5G323CA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• フレキシブルプリント配線用基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-184940   出願人：東洋メタライジング株式会社