特許
J-GLOBAL ID：200903033554124080
超高透過率の位相シフト型のマスクブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-015429
公開番号（公開出願番号）：特開2005-208660
出願日： 2005年01月24日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】300nm以下の波長を持つ光の露光用の位相シフト型のマスクブランク、その前処理方法、位相シフト型のマスクブランクを用いて製造される位相シフト型のマスク、および位相シフト型のマスクの製造方法を提供する。【解決手段】フォトマスクは、基板1および位相シフト系を有し、位相シフト系は、少なくとも位相シフト層2と、エッチング停止層3とを備え、180°の位相シフトを有するとともに露光波長で少なくとも40%の光透過率を有する。【選択図】図1d
請求項（抜粋）：
基板および位相シフト系を有する位相シフト型のマスクブランクであって、
前記位相シフト系は、少なくとも二つの層を備え、
前記位相シフト系における層のうちの少なくとも一層は、位相シフト機能を提供する位相シフト層であり、前記位相シフト系における層のうちの他の少なくとも一層は、エッチング停止機能を提供するエッチング停止層であり、
前記マスクブランクは、実質的に180°の位相シフトを有するとともに300nm以下の波長を持つ光を露光に用いる場合において少なくとも40%の光透過率を有する位相シフト型のフォトマスクを生成可能である、ことを特徴とするマスクブランク。
IPC (3件)：
G03F1/08
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
2H095BA02
, 2H095BB01
, 2H095BB03
