欠陥検査方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小西淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-117407
公開番号（公開出願番号）：特開平7-301609
出願日： 1994年05月09日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】 LCD用カラーフイルター等を透過光で観察した場合にみられる、部分的なシミ状欠陥の検出方法に関し、欠陥形状の選択性が良い検査方法を提供する。特に、検査領域と非検査領域とで試料透過光の輝度差が大きい場合にも対応できる検査方法を提供する。【構成】少なくとも、撮像手段により得られた撮像画像データに対し、欠陥の形状に沿った形状の第一の空間フイルターでの畳み込み積分処理を伴う近傍平均化処理を行った画像データと、前記撮像画像データに対し、欠陥形状に沿った形状で第一の空間フイルターよりさらに大きな形状の第二の空間フイルターでの畳み込み積分処理を伴う近傍平均化処理を行った画像データとの間で、対応する画素毎に減算処理を行って、欠陥部が強調された画像データを得て、これをスライス処理することにより欠陥検出する工程を有する。

請求項（抜粋）：

CCD素子等を用いた撮像手段により、試料を撮像することにより得られた撮像画像データに画像処理を施して、シミ状の欠陥を検出する検査方法であって、少なくとも、撮像手段により得られた撮像画像データに対し、欠陥の形状に沿った形状の第一の空間フイルターでの畳み込み積分処理を伴う近傍平均化処理を行った画像データと、前記撮像画像データに対し、欠陥形状に沿った形状で第一の空間フイルターよりさらに大きな形状の第二の空間フイルターでの畳み込み積分処理を伴う近傍平均化処理を行った画像データとの間で、対応する画素毎に減算処理を行って、欠陥部が強調された画像データを得て、これをスライス処理することにより欠陥検出する工程を有することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G01N 21/88 , G06T 7/00 , G06T 5/20

FI (2件)：

G06F 15/62 405 A , G06F 15/68 410

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-185192
特開昭59-043672
特開昭62-293145

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