特許
J-GLOBAL ID:200903033588358756
高分子材料成形体の表面処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-146691
公開番号(公開出願番号):特開平6-336530
出願日: 1993年05月27日
公開日(公表日): 1994年12月06日
要約:
【要約】【目的】 種々の低活性高分子材料成形体の表面にも適用出来、その表面を親水性に変える方法を提供することである。【構成】 被照射物を、放射光の波長の最大値が180nm以下の放射帯域にある誘電体バリヤ放電ランプで照射する。
請求項(抜粋):
放射光の波長の最大値が180nm以下の波長帯域にある誘電体バリヤ放電ランプから放射される紫外線を高分子材料成形体に照射して、高分子材料成形体の表面を親水性に変えるかもしくはその親水性を増大せしめることを特徴とする表面処理方法。
IPC (6件):
C08J 7/00 303
, C08J 7/00 CES
, C08J 7/00 CEW
, B01J 19/12
, C08L 23:02
, C08L 27:18
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平3-128947
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特開平3-269024
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特開平4-318037
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