デバイスを製造する方法、この方法によって製造したデバイス、およびこの方法で使用するマスク

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-177248
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059827
出願日： 2002年06月18日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】デバイス製造方法で使用される物体側で非テレセントリックな投射システムを有するリソグラフィ装置において、マスクの変形などの歪みによって引き起こされるオーバレイエラーなどを防止又は軽減すること。【解決手段】放射線感応材料の層で覆われた基板を提供するステップと、放射システムを使用して放射投射ビームを提供するステップと、反射性パターン形成手段を使用して投射ビームの断面にパターンを与えるステップと、物体側で非テレセントリックな投射システムを使用して、パターン形成された放射ビームを投射し、放射線感応材料の層の目標部分に像を形成するステップとを含む、デバイスを製造する方法であって、パターン形成手段の公称反射表面を投射システムの公称物体平面から離れるようにシフトおよび/または傾斜させて、投射像の歪みおよび/またはオーバレイ・エラーを軽減するステップを含むことを特徴とするデバイスを製造する方法。

請求項（抜粋）：

放射線感応材料の層で少なくとも部分的に覆われている基板を設けるステップと、放射システムを使用して放射の投射ビームを供給するステップと、投射ビームの断面にパターンを与える反射性パターン形成手段を使用するステップと、物体側で非テレセントリックな投射システムを使用して、パターン形成された放射ビームを投射し、放射線感応材料の層の目標部分に像を形成するステップとを含む、デバイスを製造する方法であって、パターン形成手段の公称反射表面を投射システムの公称物体平面から離れるようにシフトおよび/または傾斜させて、投射像の歪みおよび/またはオーバレイ・エラーを軽減するステップを含むことを特徴とするデバイスを製造する方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 1/16 A , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 531 E , H01L 21/30 516 A

引用特許：

審査官引用 (7件)

走査型露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-347937 出願人：キヤノン株式会社
露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-094317 出願人：株式会社ニコン
走査型投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-200911 出願人：株式会社ニコン

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