特許

J-GLOBAL ID：200903033593531270

回折光学素子の製造方法

発明者： 塩野 照弘 ,  小川 久仁
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-138267
公開番号（公開出願番号）：特開平5-333204
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】 断面が階段形状の回折光学素子の製造方法に関し、階段形状が良好に形成でき、回折効率を高くする製造方法を提供する。【構成】 基板1に感光性媒体2Aを塗布して第1のプリベーキングを行い、その上に、同じ感光性媒体2Bを塗布して、第1のプリベーキング温度よりも低い温度で第2のプリベーキングを行い、感光性媒体2A、2Bに、電子ビーム3を照射描画して、現像処理を行い、感光性媒体2の膜厚を階段的に変化させ、断面が階段形状(図1では3段階)の回折光学素子4を製造する。

請求項（抜粋）：

基板に感光性媒体を塗布して第1のプリベーキングを行い、上記第1のプリベーキングを行った上記感光性媒体上に、上記感光性媒体を塗布し、第1のプリベーキング温度よりも低い温度で第2のプリベーキングを行い、順次上記感光性媒体の塗布と前回のプリベーキングよりも低い温度でのプリベーキングを行うことを繰り返し(塗布、プリベーキング回数合計N回とする)、上記プリベーキングを行なった上記感光性媒体に、回折光学素子の形状に対応させて、荷電粒子の照射量を変化させて描画し、現像処理を行い、上記感光性媒体の膜厚を階段的に変化させ、(N+1)段階の階段形状の回折光学素子を形成することを特長とする回折光学素子の製造方法。