特許
J-GLOBAL ID:200903033600410530

ステレオリソグラフィーにおける高度な構成技術

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳田 征史 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-527841
公開番号(公開出願番号):特表平9-512220
出願日: 1995年04月25日
公開日(公表日): 1997年12月09日
要約:
【要約】要求される薄さの支持されていない構造を形成することができない、及び/又は、要求される薄さでコーティングすることができない、低い分解能の材料を用いて、高分解能目的物を作成する方法及び装置。これらの形状の固化に、効果的に使用される最小キュア深さに等しいか、又は越える構成材料の深さに、目的物の下面が位置することを可能にするように、より上の層が形成されるまで、少なくとも、幾つかのクロスセクションの少なくとも1部分の上の材料の固化を遅らせるための、露光を制御するために使用された、層比較に基づいたデータ処理技術。前に固化された材料の上に、存在する最小の信頼できるコーティング厚さを確保するために、次の層が固化される以前に、同様なデータ処理が使用される。また、目的物の形成に使用する質の高いクロスセクションデータを提供するために、水平比較技術が使用される。さらに、3次元目的物の処理をすることによる、Z-エラー訂正を自動的に実行するための幾つかの技術が示される。さらにまた、固化していない材料の排出を可能にする技術を含め、焼き流し精密鋳造に使用できる目的物を製造する技術が示される。穴と排水路を自動的に作成する方法と装置がまた、提供される。
請求項(抜粋):
相互依存刺激にさらされることによって、物理的な変化が可能な材料の層から、3次元の目的物を構成するための、ステレオリソグラフィカル方法が、 3次元目的物のクロスセクションを記述するデータを受け取ること、 上記材料の層を形成すること、及び、 層を重ねることによって、3次元目的物を構成するために、上記クロスセクションを記述するデータに従って、上記層を相互依存刺激に選択的にさらすことの各ステップを含む。
IPC (3件):
B29C 67/00 ,  G06F 17/50 ,  B29C 35/08
FI (3件):
B29C 67/00 ,  B29C 35/08 ,  G06F 15/60 624 E

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