特許
J-GLOBAL ID：200903033614671379
静電潜像現像用キャリア及び静電潜像現像用現像剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉田 研二
, 石田 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-216191
公開番号（公開出願番号）：特開2008-040270
出願日： 2006年08月08日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：
【課題】キャリアに対する機械的なストレスに安定で、画像特性に優れた静電潜像現像用キャリア及び静電潜像現像用現像剤を提供する。【解決手段】コア粒子とコア粒子表面を被覆する樹脂被覆層とを有する静電潜像現像用キャリア及びそのキャリアを含有する静電潜像現像用現像剤において、コア粒子の表面の粗さを示す平均間隔Sm及び算術平均粗さRaを所定の範囲とし、少なくとも2層からなる樹脂被覆層の最下層がノボラック樹脂及び誘導体化ノボラック樹脂のうち少なくとも1つを含むことにより、キャリアに対する機械的なストレスに安定で、画像特性に優れた静電潜像現像用キャリア及び静電潜像現像用現像剤を提供することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
コア粒子と前記コア粒子表面を被覆する樹脂被覆層とを有する静電潜像現像用キャリアであって、
前記コア粒子の表面の粗さは、凹凸の平均間隔Smが1.0μm〜3.5μmの範囲であり、かつ算術平均粗さRaが0.2μm〜0.7μmの範囲であり、
前記樹脂被覆層は少なくとも2層からなり、最下層の樹脂被覆層は、ノボラック構造を有するノボラック樹脂及びノボラック樹脂から誘導される誘導体化ノボラック樹脂のうち少なくとも1つである硬化性樹脂を含むことを特徴とする静電潜像現像用キャリア。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
2H005BA06
, 2H005BA15
, 2H005CA15
, 2H005FA01
