特許
J-GLOBAL ID:200903033618978924

揮発性有機化合物の処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-261558
公開番号(公開出願番号):特開平9-103644
出願日: 1995年10月09日
公開日(公表日): 1997年04月22日
要約:
【要約】【課題】 光反応速度が早く、光触媒反応の効率が良好で、しかも、光触媒活性を有する物質の再生/交換工程が容易な、揮発性有機化合物の処理装置を提供する。【解決手段】 揮発性有機化合物の処理装置10の主要部をガス吸入口14とガス排出口16とを有する反応塔12が構成している。反応塔12上部に一端が接続されるパイプ18の他端は、反応塔12の下端に接続され、パイプ18と反応塔12とで光触媒粉末の循環系を構成しており、パイプ18には酸化チタン粉末20を循環、散布する粉末移送ポンプ22が接続されている。反応塔12内には、上下に振動して光触媒粉末20を反応塔12内に分散浮遊させる振動分散板24及び光触媒反応に必要な光を照射する紫外線ランプ30が配置されている。
請求項(抜粋):
被処理ガスを供給するガス吸入口と処理したガスを排出するガス排出口とを有する反応塔と、反応塔に接続され、且つ、光触媒粉末を循環させて反応塔内に散布する粉末移送ポンプと、上下に振動可能に反応塔に支持されると共に、振動して光触媒粉末を塔内に分散浮遊させる振動分散板と、反応塔内の光触媒粉末に光を照射する光源と、を備えたことを特徴とする揮発性有機化合物の処理装置。
IPC (4件):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ZAB ,  B01J 35/02
FI (5件):
B01D 53/36 ZAB G ,  B01J 21/06 ZAB A ,  B01J 35/02 J ,  B01J 35/02 A ,  B01D 53/36 J
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 有害ガスの除去方法及び装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-218029   出願人:富士電機株式会社
  • 特公平4-054511
  • 特開昭63-190632
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