特許

J-GLOBAL ID：200903033627255811

感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法

発明者： 佐々木 範
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-132285
公開番号（公開出願番号）：特開2002-328471
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物、高解像度でプロセス安定性の良好な感光材料、優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)【化1】で表される5,5-ジメチル-1-ピロリン-N-オキシド、下記一般式(II)【化2】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環を示す)で表されるチタノセン化合物及び付加重合性化合物を含有してなる感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)【化1】で表される5,5-ジメチル-1-ピロリン-N-オキシド、下記一般式(II)【化2】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環を示す)で表されるチタノセン化合物及び付加重合性化合物を含有してなる感光性組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/029 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/48 ,  C08F299/02 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/029 ,  C08F 2/44 B ,  C08F 2/48 ,  C08F299/02 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (47件)：

2H025AA02 ,  2H025AA06 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AA14 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BA07 ,  2H025BC03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC69 ,  2H025CA39 ,  2H025CC01 ,  2H025CC20 ,  2H025FA29 ,  4J011PA36 ,  4J011PA38 ,  4J011PA49 ,  4J011PB25 ,  4J011PC02 ,  4J011QA03 ,  4J011QA06 ,  4J011QA09 ,  4J011QA13 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA38 ,  4J011QB16 ,  4J011QB17 ,  4J011SA88 ,  4J027AD03 ,  4J027BA05 ,  4J027BA06 ,  4J027BA08 ,  4J027BA14 ,  4J027BA18 ,  4J027BA20 ,  4J027BA25 ,  4J027BA26 ,  4J027BA27 ,  4J027CA25 ,  4J027CA28 ,  4J027CB10 ,  4J027CC05 ,  4J027CD10