特許
J-GLOBAL ID：200903033630883084
真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000003597
公開番号（公開出願番号）：WO2000-075972
出願日： 2000年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月14日
要約：
【要約】本発明は、被処理基板(17)を載置するステージ(16)を有する真空処理室(14)と、この真空処理室(14)を形成する処理チャンバー(11)の周壁に設けられ、前記ステージ(16)に対して被処理基板(17)を搬入・搬出する搬送口(18)とからなり、前記真空処理室(14)内でプラズマを発生させ、前記ステージ(16)上の被処理基板(17)をプラズマ処理する真空処理装置において、前記真空処理室内でプラズマを発生する際に、前記搬送口(18)を閉塞してプラズマの乱れを防止するシャッタ(20)を設けた真空処理装置である。
請求項（抜粋）：
被処理基板を載置するステージを有する真空処理室と、 この真空処理室の周壁に設けられ、前記ステージに対して被処理基板を搬入・搬出する搬送口とからなり、前記真空処理室内でプラズマを発生させ、前記ステージ上の被処理基板をプラズマ処理する真空処理装置において、 前記ステージ上に対して前記被処理基板を外部と受け渡しを行う際には、退避し、前記真空処理室内でプラズマを発生する際には、前記ステージの周囲を覆うように設置されて、前記搬送口を閉塞しつつプラズマ発生領域を取り囲むことにより、プラズマの乱れを防止するシャッタを設けたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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