特許

J-GLOBAL ID：200903033637860187

顔料分散組成物、顔料分散レジスト、およびカラーフィルター

発明者： 斉藤 洋一 ,  麸山 解 ,  荒木 慎悟 ,  岸本 昌明 ,  勝部 浩史
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-366490
公開番号（公開出願番号）：特開2003-167112
出願日： 2001年11月30日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：

【要約】【課題】 低粘度で保存安定性に優れたカラーフィルター用顔料分散組成物、透明性、現像性、耐熱性、耐光性に優れたカラーフィルター用顔料分散レジスト、および基板上に、透明性、耐熱性、および耐光性に優れた、着色硬化塗膜層を有するカラーフィルターを提供すること【解決手段】 キノフタロン誘導体スルホン酸、またはその塩を含有するカラーフィルター用顔料分散組成物、該カラーフィルターフィルター用顔料分散組成物を含有するカラーフィルター用顔料分散レジスト、および、基板上に、該カラーフイルター用顔料分散レジストの着色硬化塗膜層を有するカラーフィルターを提供。

請求項（抜粋）：

顔料、および下記一般式で表されるキノフタロン誘導体スルホン酸、またはそのスルホン基の一部もしくは全部が塩を形成しているキノフタロン誘導体スルホン酸塩からなるキノフタロン誘導体を含有することを特徴とするカラーフィルター用顔料分散組成物。【化1】(式中、Xは置換ハロゲン原子を表し、m1およびm2はそれぞれ独立して0〜4の整数であり、置換ハロゲン原子数を表す。ハロゲン原子はすべて同一であっても、異なっていてもよい。nは1〜3の整数であり、置換スルホン基数を表す。)

IPC (4件)：

G02B 5/20 101 ,  C09B 67/46 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505

FI (4件)：

G02B 5/20 101 ,  C09B 67/46 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505

Fターム (17件)：

2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AA18 ,  2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CC11 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H048BA45 ,  2H048BA47 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42