特許
J-GLOBAL ID：200903033654802859
真空成膜装置及びその構成部品の表面処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-021813
公開番号（公開出願番号）：特開平6-220618
出願日： 1993年01月14日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：
【要約】[目的] 真空容器内における膜の成膜時に、基板以外に意に反して膜が成膜されてしまう成膜部品から、基板に膜が落ちないようにする。[構成] スパッタ成膜装置1の真空容器2内に開閉自在のシャッター19を介在させて、陰極3と陽極4とが配設されている。シャッター19は基材19aにチタンと銅の混合融滴粒子を吹き付けたものに、その後それを硝酸水溶液に浸漬させたものである。これによりチタンが溶けず、銅が溶けることからシャッター19の表面は凹凸形状となり、表面層内部は多孔質となる。これをシャッター19に用いると、これに成膜された膜が剥がれ落ちにくくなる。
請求項（抜粋）：
真空容器内の基板の周りに配設されている構成部品のうち、前記基板以外に膜が成膜される部品の真空成膜装置の構成部品の表面処理方法において、前記部品は化学的性質の異なる2種以上の材料を混合した複合材料で作成し、前記2種以上の材料のうち少なくとも1種以上の材料を残して、その他の材料を化学的手段により除去したことを特徴とする真空成膜装置の構成部品の表面処理方法。
IPC (3件)：
C23C 14/24
, C23C 4/18
, C23F 1/44
