特許
J-GLOBAL ID:200903033660140540

透明導電膜の製造方法及び光起電力素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鳥居 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-081422
公開番号(公開出願番号):特開平11-284208
出願日: 1998年03月27日
公開日(公表日): 1999年10月15日
要約:
【要約】【課題】 この発明は、低温で透明導電膜を形成でき、基板として強化ガラスを直接使用することができる透明導電膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 この発明の透明導電膜の製造方法は、ガラス基板1上に炭素系材料からなる炭素層領域11...を分散して設け、この上に気相成長法により結晶系透明導電膜2を形成する。
請求項(抜粋):
基板上に炭素系材料からなる炭素層領域を分散して設け、この上に気相成長法により結晶系透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
IPC (3件):
H01L 31/04 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/28 301
FI (3件):
H01L 31/04 M ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/28 301 Z
引用特許:
審査官引用 (1件)

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