特許
J-GLOBAL ID:200903033678917541
アミノニトリルの製造
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
谷 義一 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-536689
公開番号(公開出願番号):特表2002-506849
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2002年03月05日
要約:
【要約】ジニトリルを選択的に水素化してアミノニトリルを製造する方法を提供する。この方法は、アルコールまたは液体アンモニアを含む溶媒、少なくとも1種の金属触媒、および、例えば有機アミド、有機エステル、カルボン酸の塩、または尿素などのカルボニル基含有添加剤の存在下で、ジニトリルと水素含有流体を接触させることを含んでいる。
請求項(抜粋):
触媒と溶媒の存在下で、ジニトリルを水素含有流体に接触させることを含む方法であって、前記触媒がニッケル、コバルト、鉄、およびそれらの複数の組合せからなる群から選択した金属であり、前記触媒がアルミナ、酸化マグネシウム、およびそれらの組合せからなる群から選択した無機担体上に保持されており、前記溶媒が液体アンモニアまたはアルコールを含むことを特徴とする方法。
IPC (3件):
C07C253/30
, C07C255/24
, C07B 61/00 300
FI (3件):
C07C253/30
, C07C255/24
, C07B 61/00 300
Fターム (15件):
4H006AA02
, 4H006AC52
, 4H006BA19
, 4H006BA20
, 4H006BA21
, 4H006BA50
, 4H006BA51
, 4H006BA55
, 4H006BB14
, 4H006BB30
, 4H006BC35
, 4H006BE20
, 4H006QN30
, 4H039CA71
, 4H039CF40
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