特許
J-GLOBAL ID:200903033679223756

グレーティング設計

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-525439
公開番号(公開出願番号):特表2003-510627
出願日: 2000年09月21日
公開日(公表日): 2003年03月18日
要約:
【要約】本発明は、チャープされた標本化周期を有するサンプルドグレーティング構造を組み込む光学装置を提供する。この他に、本発明は、感光性の光導波路にグレーティング構造を作成する方法として定義されてもよく、この方法は、サンプルドグレーティング構造を作成するように光導波路に屈折率分布を誘起するのに十分な強度で紫外線光を装置に照射する工程を備え、この照射は標本化周期のチャープを起こすように調整されている。この他に、本発明は、チャープされた標本化周期を有するサンプルドグレーティング構造を備える群遅延分散補償装置を備えることで定義されてもよい。ゼロ分散のWDMチャンネルを作成する方法が提供できることが認識される。
請求項(抜粋):
チャープされた標本化周期を有するサンプルドグレーティング構造を組み込んだ光学装置。
IPC (3件):
G02B 6/10 ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/16
FI (3件):
G02B 6/10 C ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/16
Fターム (10件):
2H049AA02 ,  2H049AA33 ,  2H049AA34 ,  2H049AA45 ,  2H049AA51 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62 ,  2H050AC82 ,  2H050AC84 ,  2H050AD00

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