特許
J-GLOBAL ID：200903033679284852
誘電体素子ならびにその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-328571
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166664
出願日： 1991年12月12日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 基板のエッチング除去工程でサイドエッチングを抑制する構成を備えた誘電体素子及び、その製造法を供給する。【構成】 第1基板11に誘電体薄膜12を作製し、前記第1基板の周辺部の概ね全面を覆うように電極13を設け、この上に基板全体を覆うように有機薄膜14を作製し、この上に第2基板16を接着した後に、第1基板を裏面からエッチング除去することにより、前記基板16上に前記有機薄膜14が接着支持され、前記有機薄膜14上に前記誘電体薄膜12が設けられている誘電体素子。
請求項（抜粋）：
基板と、有機薄膜と、電極と、前記有機薄膜よりも小さい誘電体薄膜とを備え、前記基板上に前記有機薄膜が接着支持され、前記有機薄膜上に前記誘電体薄膜が支持され、前記有機薄膜上に前記電極が設けられており、前記有機薄膜表面の周辺部の概ね全面が前記電極により覆われているいることを特徴とする誘電体素子。
IPC (3件)：
H01G 4/06 102
, H01B 3/00
, H01L 27/04
