特許
J-GLOBAL ID：200903033687599188
ポリ(トリス-1,3,5(4-フェニル-1-チオ)ベンゼン)及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
▲高▼野 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-034439
公開番号（公開出願番号）：特開2005-225933
出願日： 2004年02月12日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：
【課題】大量工業生産に適した高モル質量の樹状ポリ(フェニレンスルフィド)のワンポット製造方法を提供し、室温で有機溶媒に可溶な樹状高分子であるポリ(トリス-1,3,5(4-フェニル-1-チオ)ベンゼン)を製造すること。【解決手段】下記式(1)のトリス-1,3,5(4-クロロフェニル-1-チオ)ベンゼンをリチウムスルフィドの存在下に重縮合させて、下記式(2)の繰り返し単位で表されるポリ(トリス-1,3,5(4-フェニル-1-チオ)ベンゼン)を製造することを特徴とする樹状高分子の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)のトリス-1,3,5(4-クロロフェニル-1-チオ)ベンゼンをリチウムスルフィドの存在下に重縮合させて、下記式(2)の繰り返し単位で表されるポリ(トリス-1,3,5(4-フェニル-1-チオ)ベンゼン)を製造することを特徴とする樹状高分子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
4J030BA04
, 4J030BA49
, 4J030BB29
, 4J030BB31
