特許

J-GLOBAL ID：200903033688853860

局所アッシング装置

発明者： 細谷 浩二 ,  坂元 弘実 ,  美濃 隆至
出願人/特許権者： 日本電池株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-187651
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094450
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】半導体製造や液晶表示パネル製造において、マスク,ガラス基板等に塗布されたレジストの不要部分を現像工程によらず局所的に剥離を行う局所アッシング装置を提供する。【構成】直管状の紫外線ランプと反射板から成る光源と、光源より照射される紫外線を集光して紫外線強度を増加するためのレンズを備える。オゾン、酸素等のアシストガスを吹き付ける機構を備える。アシストガスの排気機構を備える。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布されたレジストに紫外線を照射してレジストを局所的に剥離する局所アッシング装置であって、光源は紫外線を放射する直管状のランプと反射板から構成され、光源より照射された紫外線を集光し、剥離形状にあわせて基板上のレジストに局所的に紫外線を照射するための1個以上のレンズを備えることを特徴とする局所アッシング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/30 ,  H01L 21/3065

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭52-018175
  
• 特開昭57-024538
  
• 特開平4-354321