特許
J-GLOBAL ID：200903033690487730

化学増幅型レジスト組成物用の酸発生剤

発明者：
スン-ド ジュン

スン-ド ジュン について

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ジン-ホ キム

ジン-ホ キム について

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ジュン-フン オー

ジュン-フン オー について

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ヒュン-スン リム

ヒュン-スン リム について


出願人/特許権者：
コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド

コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド について


代理人 (2件)： 藤田 和子 ,  新山 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-244523
公開番号（公開出願番号）：特開2009-280562
出願日： 2008年09月24日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：
【課題】化学増幅型レジスト組成物において、優れた解像度とライン幅ラフネスを有し、ArF液浸工程において水への溶出の少ない新規な酸発生剤、および酸発生剤の製造時に用いられる中間体および中間体物質を合成する製造方法を提供する。【解決手段】化学式1または2で表される酸発生剤(式中、Xは炭素数1〜20のアルキル、ハロアルキル、アルキルスルホニル基であって、少なくとも1つ以上の水素がエーテル基、エステル基、カルボニル基、アセタール基、ニトリル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基またはアルデヒド基で置換又は非置換されたアルキル、ハロアルキル、アルキルスルホニル基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基を表し、R6は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ、またはN、S、F、Oから選択されたヘテロ原子であり、mは0〜2の整数であり、A+は有機対イオンである)。(化学式1)(化学式2)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記化学式1で表される酸発生剤。
IPC (6件)：
C07C 309/12 ,  C07C 309/08 ,  C07C 381/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
C07C309/12 ,  C07C309/08 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (19件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80 ,  4H006BE23
引用特許：
審査官引用 (10件)
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