特許
J-GLOBAL ID：200903033690734207
両面研磨装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
綿貫 隆夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-202137
公開番号（公開出願番号）：特開2000-033560
出願日： 1998年07月16日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：
【要約】【課題】 装置の大型化に好適に対応し、上定盤を重くしたり、上定盤の回転数を上げることが可能であり、高い研磨精度を維持できると共に研磨効率を向上できること。【解決手段】 薄平板に透孔12aが設けられて成るキャリヤ12と、キャリヤ12の透孔12a内に配されたウェーハ10を、上下から挟むと共にウェーハ10に対して相対的に移動して研磨する上定盤14及び下定盤16と、キャリヤ12を、キャリヤ12の面と平行な面内で自転しない円運動をさせ、透孔12a内で上定盤14と下定盤16との間に保持されたウェーハ10を旋回移動させるキャリヤ旋回運動機構20と、上定盤14に当接し、上定盤14のキャリヤ12の面に平行な方向への揺れを阻止するローラ62とを具備する。
請求項（抜粋）：
薄平板に透孔が設けられて成るキャリヤと、該キャリヤの透孔内に配された板状のワークを、上下から挟むと共に該ワークに対して相対的に移動して研磨する上定盤及び下定盤と、前記キャリヤを、該キャリヤの面と平行な面内で自転しない円運動をさせ、前記透孔内で上定盤と下定盤との間に保持された前記ワ-クを旋回移動させるキャリヤ旋回運動機構とを備える両面研磨装置であって、前記上定盤に当接し、該上定盤のキャリヤの面に平行な方向への揺れを阻止する振動防止手段が設けられたことを特徴とする両面研磨装置。
Fターム (10件)：
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AB04
, 3C058AB06
, 3C058AB08
, 3C058AB09
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA06
, 3C058DA18
