特許
J-GLOBAL ID：200903033699255905
無電解銅めっき装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213709
公開番号（公開出願番号）：特開平6-033254
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：
【要約】【目的】 無電解銅めっき浴内の溶存酸素濃度を制御し、かつ、めっき厚のばらつきを減少させる。【構成】 溶存酸素メーター14の信号に基いて、窒素ガスボンベ7からの窒素ガス量と空気ポンプ6からの空気量とを制御することにより、めっき槽3内の溶存酸素濃度を制御し、浴の活性状態を変化させる。また、めっき槽3内の被めっき物投入場所とガス導入場所を分けることで、被めっき物にガス攪拌の気泡が直接当ることがなく、めっき厚のばらつきが抑えられる。
請求項（抜粋）：
めっき槽と、溶存酸素制御部とを有する無電解銅めっき装置であって、めっき槽は、その内部がめっき処理部とガス供給部とに仕切られたものであり、めっき処理部は、めっき液中に被めっき物を浸漬してめっき処理を行うためのものであり、ガス供給部は、窒素ガスと空気とを混入しためっき液をガス流によりめっき処理部内に循環させるためのものであり、溶存酸素制御部は、溶存酸素メータと、窒素ガス・空気の供給制御部とを有し、溶存酸素メータは、めっき処理部内における溶存酸素濃度を測定するものであり、窒素ガス・空気の供給制御部は、溶存酸素メータからの出力信号に基いて、めっき液中への窒素ガス,空気の供給量を制御するものであることを特徴とする無電解銅めっき装置。
IPC (3件)：
C23C 18/31
, C23C 18/38
, H05K 3/18
