特許

J-GLOBAL ID：200903033704340649

活性炭及びその製造方法

発明者： 阿部 進 ,  石邨 静雄
出願人/特許権者： クラレケミカル株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-346693
公開番号（公開出願番号）：特開2001-240407
出願日： 2000年11月14日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
要約：

【要約】【課題】 小分子物質を効果的に吸着することのできる活性炭及びその製造方法を提供する。【解決手段】 細孔径が揃い、比表面積が500〜3000m2/g、かつ25°C1気圧下に於ける窒素の吸着量が10ml/g以上の活性炭により上記課題を解決することができる。このような活性炭は、炭素質材料を、炭酸ガスを主成分とし、水蒸気が2容量%以下で且つ一酸化炭素ガスを2容量%以上を含む雰囲気下600〜1200°Cの温度で賦活することによって製造される。

請求項（抜粋）：

細孔径が揃い、比表面積が500〜3000m2/g、かつ25°C1気圧下に於ける窒素の吸着量が10ml/g以上であることを特徴とする活性炭。

IPC (2件)：

C01B 31/10 ,  B01J 20/20

FI (2件)：

C01B 31/10 ,  B01J 20/20 A

Fターム (16件)：

4G046HA03 ,  4G046HB05 ,  4G046HB07 ,  4G046HC09 ,  4G046HC10 ,  4G046HC12 ,  4G066AA05B ,  4G066AA14D ,  4G066AA43D ,  4G066AC25A ,  4G066BA26 ,  4G066BA36 ,  4G066CA51 ,  4G066FA18 ,  4G066FA34 ,  4G066FA37