特許

J-GLOBAL ID：200903033705683140

基板処理装置

発明者： 木瀬 一夫
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-036399
公開番号（公開出願番号）：特開2003-243489
出願日： 2002年02月14日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：

【要約】【課題】 処理を高精度で行い、かつ静電気を発生させない基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置1の本体2に、温度変化による形状変化が少なく、かつ基板90の静電気の発生を防止する一体の石製のステージ3と、レジスト液を吐出する吐出系40および吐出系40をZ軸方向に昇降させる昇降機構44、45を備えた架橋構造4と、架橋構造4をX軸方向に移動させるリニアモータ50、51と、ステージ3の保持面30の両側に一対の走行レール31とを設ける。基板90に対する処理を行う際には、ステージ3が基板90を所定の位置に保持するとともに、制御系6が吐出系40の位置制御を行う。

請求項（抜粋）：

基板を保持する保持台と、所定の処理ツールが取り付けられ、前記保持台の表面に沿って掛け渡された架橋構造と、前記架橋構造を前記保持台に保持されている基板の表面に沿った方向に移動させる移動手段と、を備え、前記方向に前記架橋構造を移動させつつ、前記処理ツールによって前記基板の表面を走査することにより、前記基板の表面に対して所定の処理を行う基板処理装置において、前記保持台が、略平坦面とされた表面を持つ単体の石盤を用いて構成されており、前記石盤の表面に前記基板が保持されることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B05B 1/04 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 N ,  B05B 1/04 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 Z

Fターム (28件)：

2H025AB17 ,  2H025EA04 ,  4F033AA14 ,  4F033BA03 ,  4F033CA05 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033LA12 ,  4F033LA13 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA13 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA44 ,  5F031HA45 ,  5F031HA59 ,  5F031JA01 ,  5F031JA13 ,  5F031JA17 ,  5F031JA32 ,  5F031LA08 ,  5F031LA12 ,  5F031MA26 ,  5F031PA11 ,  5F031PA21 ,  5F046JA21 ,  5F046JA27