特許
J-GLOBAL ID:200903033726911666

液晶表示装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 隆彌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-337444
公開番号(公開出願番号):特開2000-162637
出願日: 1998年11月27日
公開日(公表日): 2000年06月16日
要約:
【要約】【課題】 透過型表示と反射型表示を一枚の基板で同時に行なう液晶表示装置を、従来の液晶表示装置よりも周囲光および照明光(バックライト光)の利用効率を向上させ、品質を安定化させると共に製造を簡単化した液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 絶縁性基板1上に、複数のゲート配線3と複数のソース配線9aが直交するように配設され、前記配線の交差部近傍にはTFT7が設けられている。TFT7のドレイン電極9cには画素電極として反射電極11と透過電極8aが接続されている。これら画素電極が形成された部分は、基板上方から観察すると、光透過効率の高い領域Aと、光反射効率の高い領域Bの2つの領域からなる。
請求項(抜粋):
液晶層を間に挟んで対向配置された一対の基板の一方の基板に、走査線と、絶縁膜を介して該走査線と交差するように形成される信号線と、該走査線と該信号線の交差部近傍に形成される薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタを介して該信号線と電気的に接続させるドレイン電極と、該薄膜トランジスタまたは該信号線の上に形成される層間絶縁膜と、透過電極と、該層間絶縁膜の上に形成される反射電極とで画素電極が構成され、該画素電極は該ドレイン電極と電気的に接続され、該各走査線および各信号線の表示領域外の端子部上に接続電極が設けられている液晶表示装置を製造する方法であって、該一方基板に、該走査線、該信号線、該薄膜トランジスタおよび端子部の該接続電極を形成する工程と、少なくとも、該接続電極を覆うように該層間絶縁膜を形成し、該層間絶縁膜の上および他の部分の上にわたって反射電極を形成する工程と、少なくとも該接続電極上の反射電極を除去すると共に、該表示領域に該反射電極が存在するように該反射電極をパターニングする工程と、該接続電極上の層間絶縁膜の除去をO2プラズマ中、またはCF4を含むO2プラズマ中での処理により該接続電極を表出させる工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Fターム (16件):
2H092GA17 ,  2H092JA26 ,  2H092JA46 ,  2H092JB07 ,  2H092JB22 ,  2H092KA10 ,  2H092MA05 ,  2H092MA08 ,  2H092MA12 ,  2H092MA13 ,  2H092MA18 ,  2H092MA27 ,  2H092NA07 ,  2H092NA24 ,  2H092NA29 ,  2H092QA08

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