特許

J-GLOBAL ID：200903033735108981

パターン露光方法及びパターン露光装置

発明者： 川上 研一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-153256
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022939
出願日： 1994年07月05日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】【目的】 パターン露光方法及びパターン露光装置に関し、遮光膜によって形成されたパターンを有するレティクルを用い、位相シフト露光方法と同様のコントラストの光学像を得る手段を提供する。【構成】 露光用光源1から放射される露光光を第1のパターンを有する第1のレティクル2に入射させ、この第1のレティクル2を透過した露光光の0次回折像を空間フィルタ3によって遮断し、この0次回折像を遮断された第1のレティクル2を透過した露光光を第1のレンズ系4を用いて、第1のパターンの縁部を遮断する第2のパターンを有する第2のレティクル5に入射させ、この第2のレティクル5を透過した露光光を第2のレンズ系6を用いて感光性被膜を有する被露光ウェハ7の上に投影する。

請求項（抜粋）：

露光光を第1のパターンを有する第1のレティクルに入射させ、該第1のレティクルを透過した露光光の0次回折像を遮断し、該0次回折像を遮断した第1のレティクルを透過した露光光を第1のレンズ系を用いて、該第1のパターンの縁部を遮断する第2のパターンを有する第2のレティクルに入射させ、該第2のレティクルを透過した露光光を第2のレンズ系を用いて感光性被膜の上に投影することを特徴とするパターン露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 27/18 ,  G03F 7/20 521