特許

J-GLOBAL ID：200903033750870490

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法

発明者： 粕谷 圭 ,  加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  橋本 通晰
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-065793
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258807
出願日： 1998年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 高解像度かつ耐熱性に優れたポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及び、解像度、耐熱性の良好なレジストパターンを現出させることができるレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する環状化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物であって、成分(c)が一般式(I)で表されるポリフェノール環状化合物のフェノール性水酸基の水素原子の少なくとも一部を、酸分解性基で置換した環状化合物であるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、並びに、この組成物の塗膜を、活性化学線で照射し、次いで現像することによるレジスト像の製造法。(式中、nは4〜8の整数を示す)

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する環状化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物であって、上記成分(c)が一般式(I)で表されるポリフェノール環状化合物のフェノール性水酸基の水素原子の少なくとも一部を、酸の存在下で解離することが可能な酸分解性基で置換した環状化合物であることを特徴とするポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。【化1】(式中、nは4〜8の整数を示す)

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R