特許
J-GLOBAL ID：200903033769542443
荷電粒子線マスク検査方法、荷電粒子線マスク検査装置及び荷電粒子線マスクデータ構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-060468
公開番号（公開出願番号）：特開2005-250106
出願日： 2004年03月04日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：
【課題】 2以上のマスクを用いてパターン転写する場合のマスクの検査を、パターン領域の検査の精度を保ちつつ、デバイス上問題が生じない箇所での擬似欠陥を救済しながら行う。【解決手段】 マスク画像とマスクデータとの比較検査を行う際に、ステッチング部とそれ以外のパターン部とに分割して、ステッチング部の欠陥検出感度をパターン部よりも低くすることで、上記擬似欠陥を救済する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
パターンを2以上のマスクに分割してマスクパターン転写を行う荷電粒子線マスクのマスク検査方法であって、
マスクの設計データ上で、2以上のマスクによって転写されるオーバーラップ領域を検出する工程と、
前記マスクの設計データを前記オーバーラップ領域データと、それ以外のパターン領域データと、に分割する工程と、
前記マスクの画像データを取得する工程と、
前記パターン領域データと、前記画像データと、を第1の欠陥検出感度により比較検査する工程と、
前記オーバーラップ領域データと、前記画像データと、を、前記第1の欠陥検出感度より低い第2の欠陥検出感度により比較検査する工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子線マスクの検査方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F1/16 F
, G03F1/16 B
, H01L21/30 502P
2H095BA09
, 2H095BD02
, 2H095BD06
