液処理装置及びその方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-374197
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189260
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】現像液を供給し現像の終了した基板を回転させながら洗浄液により基板上を洗浄する工程において、基板表面に残った現像成分を含むミストが、基板表面へ再付着することを防止すること。【解決手段】ウエハ保持部に保持されたウエハの側方を囲むようにかつ上面部がウエハの周縁部と重なるように吸引口を形成し、左右に分割された平面がリング形状の吸引路部材と、この吸引路部材の上面部分がウエハの周縁部の表面に重なる第1の位置と、ウエハより外方に置かれる第2の位置との間で吸引路部材を移動させる移動機構とを設け、現像後に、ウエハ上に洗浄液が供給されてウエハWが回転するときに、吸引路部材を第1の位置に置き、ウエハ上の雰囲気を吸引口から吸引する。

請求項（抜粋）：

基板を水平に保持し、回転自在な基板保持部と、この基板保持部により保持された基板の表面に対し処理液を供給する処理液供給ノズルと、前記処理液が供給された基板の表面に洗浄液を供給する洗浄ノズルと、前記基板保持部に保持された基板の側方を囲むようにかつ上面部が基板の周縁部の表面に重なるように吸引口を形成し、基板の周方向に複数分割された吸引路部材と、前記吸引路部材の上面部が基板の周縁部の表面に重なる第1の位置と前記上面部が基板の周縁部よりも外側に置かれる第2の位置との間で吸引路部材を移動させる移動機構と、を備え、前記基板に洗浄液が供給されて基板が回転するときに前記吸引路部材を第1の位置に置いて、基板上の雰囲気を前記吸引口から吸引することを特徴とする液処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501 , H01L 21/304 643

FI (3件)：

G03F 7/30 501 , H01L 21/304 643 A , H01L 21/30 569 C

Fターム (9件)：

2H096AA25 , 2H096CA14 , 2H096GA31 , 2H096GA33 , 5F046JA06 , 5F046JA08 , 5F046JA15 , 5F046LA02 , 5F046LA07

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