特許

J-GLOBAL ID：200903033776026213

テトラヒドロフランの製法

発明者： ロルフ-ハルトムート フィッシャー ,  フランク シュタイン ,  ロルフ ピンコース ,  ミヒャエル ヘッセ ,  マイケル ジョリョン スプラーグ ,  マルクス レシュ ,  ホルガー ボルヒェルト ,  シュテファン シュリッター ,  ラルフ-トーマス ラーン ,  アレクサンダー ヴェック
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (5件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-549659
公開番号（公開出願番号）：特表2004-525092
出願日： 2001年12月07日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

本発明は非置換またはアルキル置換THFを製造する方法に関する。これはC4-ジカルボン酸および/またはその誘導体をガス相中で、CuOを<80質量%、有利に<70質量%、特に10〜65質量%および酸性中心を有する酸化物支持体を>20質量%、有利に>30質量%、特に35〜90質量%含有する触媒を用い、ホットスポット温度240〜310°C、有利に240〜280°C、および触媒負荷0.01〜1.0、有利に0.02〜1、特に0.05〜0.5kg出発物質/l触媒・時間で、接触水素化することにより得られる。

請求項（抜粋）：

非置換またはアルキル置換THFを製造する方法において、C4-ジカルボン酸および/またはその誘導体をガス相中で、CuOを<80質量%、有利に<70質量%、特に10〜65質量%および酸性中心を有する酸化物支持体を>20質量%、有利に>30質量%、特に35〜90質量%含有する触媒を用い、ホットスポット温度240〜310°C、有利に240〜280°C、および触媒負荷0.01〜1.0、有利に0.02〜1、特に0.05〜0.5kg出発物質/l触媒・時間で、接触水素化することを特徴とする、非置換またはアルキル置換THFの製法。

IPC (1件)：

C07D307/08

FI (1件)：

C07D307/08

Fターム (1件)：

4C037BA02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平2-000786
  
• 2-メチル-1,4-ブタンジオールおよび3-メチルテトラヒドロフランの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-234447   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• ガンマ-ブチロラクトン、1,4-ブタンジオール及びテトラヒドロフランを製造する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-540650   出願人：クヴェルナー・プロセス・テクノロジー・リミテッド

審査官引用 (4件)

• 特開平2-000786
  
• 2-メチル-1,4-ブタンジオールおよび3-メチルテトラヒドロフランの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-234447   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• ガンマ-ブチロラクトン、1,4-ブタンジオール及びテトラヒドロフランを製造する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-540650   出願人：クヴェルナー・プロセス・テクノロジー・リミテッド
• 特開平2-000786